Российский литограф будет стоить на 60% дешевле иностранных

Российская литографическая установка, разработанная Зеленоградским нанотехнологическим центром (ЗНТЦ), будет продаваться дешевле зарубежных аналогов на 40-60%. Ее цена составит $6 млн, а скорость обработки пластин до — от 100 до 140 в час (в зависимости от сложности топологии). Об этом рассказал ведущий разработчик литографического оборудования ЗНТЦ Виктор Абросимов на предконференции форума «Микроэлектроника».

Например, такая же установка нидерландской ASML, которая занимает 45% рынка, стоит $15 млн. И обрабатывает 180 пластин в час. Оборудование Nikon (25% рынка) стоит $12 млн и способно обрабатывать 150 пластин в час.

Оборудование компании Canon, у которой 20% рынка, стоит $10 млн. И обрабатывает 140 пластин в час. Такая же установка от SMEE обойдется в $8 млн и способна обработать 120 пластин в час.

«Российская разработка может успешно конкурировать с западными аналогиями, в том числе за счет снижения цены», — рассказал CNews представитель ЗНТЦ.

По его словам, завершение работ по разработке планируется в 2026 г. А поставки начнутся с 2028 г. До 2030 г. планируется поставка нескольких установок микроэлектронным производствам. .

При этом разработку литографа с разрешением 350 нм ЗНТЦ завершил в конце 2024 г.

Характеристика установки

Установка литографии ЗНТЦ будет работать в диапазоне 130 нм с пластинами 150 и 200 мм и длинной волны 248 нм. Поддерживает подложки Si,SOI, SiN/SiO2. ЗНТЦ планирует к 2027 г. перейти на технологию 90 нм, а к 2030 г. — освоить 65 нм.

Установка оптимизирована для фотонных интегральных схем. По словам Абросимова, использовать такую установку для этих целей экономически эффективно, т.к. набор масок для 130 нм стоит $750 тыс. А цена для 90нм составляет $1 млн. Для активных устройств экономия составит около $3-5 млн на проект.

Также фотонные лазеры на 130 нм показывают выход годных 75-85%, что выше, чем для 65-90 нм (60-70%). Это связано с большей толерантностью к дефектам и вариациям процесса. Также были перечислены такие преимущества как термическая совместимость, точность выравнивания и контроль критических размеров.

К 2034 г. рынок фотонных интегральных схем в России составил $4,9 млрд. Из него $2,9 млрд займет рынок, который закроет процесс на 130 нм и более.

Потребность рынка

«Потребность в установках для нашего рынка составит около 15-25 единиц», отметили в ЗНТЦ.

«Установка такого типа сегодня наиболее критична для технологического процесса, — отметил представитель группы компаний «Элемент». — Параметры литографа соответствуют тем, которые востребованы в для производства микроэлектроники. Если тестирование пройдет успешно, то эта установка сможет безболезненно заменить западные аналоги, в том числе на случай выхода из строя действующего оборудования. С учетом планов по развитию отрасли в России, эти литографы будут пользоваться высоким спросом».

Разработчики первого российского литографа, необходимого для производства современных чипов, находятся на стадии аванпроекта. Об этом ТАСС сообщил научный руководитель нижегородского Национального центра физики и математики, академик РАН Александр Сергеев.

Аванпроект — это предварительный проект или «техническое предложение». В случае с разработкой литографа он предвосхищает появление демонстрационного образца альфа-машины.

«Проект литографа ушел под „шапку“ Минпромторга РФ. Сейчас там определена некая последовательность событий, включая то, что выполняется аванпроект Институтом физики микроструктур РАН. Проект фактически предвосхищает выполнение проекта по альфа-машине. Это первая стадия», — сообщил Сергеев.

С его слов, в будущем примут решение, какая кооперация и в какие сроки будет реализовывать проект по созданию альфа-машины. НЦФМ будет способствовать тому, чтобы институты «Росатома» участвовали в реализации проекта.

В 2023 году академик говорил, что в нашей стране есть практически все компетенции для появления промышленного варианта отечественного литографа. Необходимость его разработки связана в том числе с тем, что западные страны ограничили экспорт технологий в Россию.

А в 2024 году директор центра конъюнктурных исследований ИСИЭЗ НИУ ВШЭ Георгий Остапкович говорил, что сегодня Россия не может производить чипы и не в силах сравниться в этом направлении даже с Китаем, не говоря о Тайване.

«Нам подвластно производить чипы 50–80 нанометров — те, которые можно поставить в проездной билет. Сейчас у нас нет не только людей, но и профессорско-преподавательского состава, который мог бы научить создавать данную продукцию», — сообщил Остапкович

источник источник