В России к 2026 году могут создать отечественное литографическое оборудование для печати чипов 130-65 нм

«Минпромторг» выделил для этого 5,7 млрд рублей.

Об этом пишет «Коммерсантъ» со ссылкой на данные тендера Минпромторга стоимостью 5,7 млрд, в рамках которого предполагается проведение разработки отечественной фотолитографической установки с минимальной топологией 130 нм.

Победителем конкурса стал АО «Зеленоградский нанотехнологический центр», который должен выполнить работы до ноября 2026 года. Согласно имеющимся данным, установка должна состоять из специального оптического устройства, в том числе системы загрузки фотошаблона, камеры с высокой точностью стабилизации температуры и программного обеспечения. «Одним из основных компонентов оборудования станет отечественный лазер. Мы рассматриваем несколько партнёров», — приводит источник слова генерального директора ЗНТЦ Анатолия Ковалёва.

По мнению специалистов, в случае успешной реализации данного проекта на разработанном оборудовании можно будет производить чипы топологией от 130 до 65 нм. Такие чипы продолжают оставаться востребованным продуктом для интернета вещей, кассового оборудования и автомобильной электроники.

Отсутствие оборудования является одной из основных проблем развития отечественной отрасли радиоэлектроники. До 2030 года планируется осуществить разработку оборудования с проектными нормами 250–28 нм, а также решения для норм 22–20 нм и 16–14 нм, следует из отраслевой стратегии, утверждённой правительством РФ в январе 2020 года.

Источник также отмечает, что компания Intel начала выпускать 65-нанометровые процессоры Pentium 4 ещё аж в 2006 году. Это ли не прорыв?

Источник