Новый фоторезист от Микрона: прорыв в российской микроэлектронике

Компания «Микрон», крупнейший российский производитель микроэлектроники, успешно завершила тестирование первого отечественного высокочувствительного фоторезиста для технологических процессов 90 нм. Это значительный шаг в развитии российской микроэлектроники и обеспечении технологического суверенитета страны.

Фоторезист — это светочувствительный материал, используемый в производстве интегральных микросхем. Он позволяет создавать на поверхности кремниевых пластин точные элементы, необходимые для работы микроэлектроники. Новый материал, разработанный «Микроном», соответствует всем техническим требованиям и обеспечивает высокое качество продукции.

Генеральный директор АО «Микрон» Гульнара Хасьянова отметила, что создание отечественного фоторезиста стало возможным благодаря тесному сотрудничеству с научными институтами и российскими производителями. В программе импортозамещения участвуют более 16 организаций, включая крупнейшие химические предприятия Приволжского федерального округа, которые обеспечивают более 40% общего объема производства химических материалов в России.

«Микрон» активно работает над заменой импортных компонентов отечественными аналогами. В производственных процессах компании используются 43 сверхчистых химических материала и 39 специальных электронных газов. Развитие отечественной электронной компонентной базы (ЭКБ) является основой технологической независимости России. К 2030 году доля отечественной продукции в ключевых отраслях, включая микроэлектронику, должна достичь 75%.

20-21 февраля 2025 года «Микрон» представил свои достижения на III Форуме будущих технологий «Новые материалы и химия» в Москве. Компания остается единственным в России серийным производителем микроэлектроники с топологией до 90 нм. Ее продукция, включая интегральные схемы для автоэлектроники, интернета вещей и защищенных носителей данных, уже включена в реестр отечественной промышленной продукции.

источник